瑞典Ionautics新一代HiPIMS設備HiPSTER 25落地瑞士Swiss PVD，攜手賦能高性能薄膜沉積技術工業化，助力PVD行業工藝升級

作為瑞典高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS）技術領域的重要企業，Ionautics長期深耕于高端涂層設備研發與工藝創新，憑借可靠的技術方案為全球表面工程及PVD（物理氣相沉積）行業提供專業設備支撐，在高精度涂層技術工業化應用領域積累了良好的行業口碑。

近日，Ionautics公司再次官宣重要進展——其自主研發的新一代HiPIMS設備HiPSTER 25，已在瑞士高端涂層領域知名企業Swiss PVD完成全流程的安裝調試，并順利實現首次商業化運行。這一成果不僅是雙方在高性能薄膜沉積領域技術理念與實踐能力的深度協同，更標志著HiPSTER系列核心技術在歐洲高端PVD市場的成功落地，為行業在鍍膜效率提升、工藝精準優化及高端應用場景拓展等方面，提供了全新的發展空間與實踐路徑。

落地Swiss PVD，共筑高端涂層生態

Swiss PVD是一家長期深耕高端表面工程技術的瑞士企業，業務涵蓋硬質涂層、功能薄膜與光學應用等多個方向。憑借豐富的薄膜沉積經驗與精細化的工藝控制體系，Swiss PVD對設備的穩定性、重復性和過程一致性有著嚴格要求。

此次將HiPSTER 25引入其生產體系，既為Swiss PVD在拓展高效HiPIMS工藝方面提供了新的技術選擇，也為雙方深化合作、共同探索高性能薄膜沉積解決方案創造了條件。對Ionautics而言，HiPSTER 25在Swiss PVD的成功部署，是其在高端應用場景中的又一次驗證，有助于獲得更多工業級應用反饋，進一步推動產品迭代與性能優化。
 
技術引領，賦能高效沉積

作為Ionautics最新推出的25 kW級緊湊型HiPIMS脈沖電源，HiPSTER 25面向硬質涂層、功能薄膜、光學鍍膜、擴散屏障、電氣涂層以及三維結構等多類應用場景設計。通過整體架構升級與關鍵器件的優化，該設備在沉積效率、穩定性和工藝靈活性方面均實現了進一步提升。其主要特性包括：

• 高效脈沖控制

采用新一代碳化硅（SiC）功率晶體管，具備耐高溫、快速開關和低損耗等優勢。結合優化后的開關設計，HiPSTER 25可實現最高150 kHz的 HiPIMS 脈沖頻率，使放電過程更穩定，并有助于在復雜基材上形成致密、均勻的薄膜結構。

• 雙極HiPIMS工藝支持

內置的雙極運行模式可在無需額外基底偏壓的條件下實現離子加速，適用于致密度和附著力要求較高的涂層應用。用戶可通過靈活調節脈沖能量與多項工藝參數，對薄膜質量實現更細致的控制。

• 廣泛的工藝兼容性

HiPSTER 25適配多種磁控管與反應式工藝，并集成Ionautics的反應過程控制系統，提高沉積過程的穩定性和成分一致性。在航空航天、醫療器械和汽車制造等對三維涂層均勻性有較高要求的行業中，也展現出良好的工藝適應性。

HiPSTER 25在Swiss PVD的成功運行，是高端制造領域中“技術創新與行業實踐”有效結合的成果，也代表著Ionautics將創新技術加速推向市場應用的重要一步。未來，瑞典Ionautics將繼續深化高功率脈沖技術研發，并與行業合作伙伴攜手，共同推動高端涂層技術的拓展與落地，助力全球PVD行業朝著更高效、精準與可持續的方向發展。如需了解更多資訊，請前往Ionautics中國官網。
作者：